在大数据、云计算、物联网等新一代通信需求的推动下，硅基光电子技术得到了长足的发展，已经成为最具潜力的高效率、低成本片上解决方案。易于使用，整合度高的开发平台成为芯片公司及设计师的首要挑战。由Ansys/Lumerical和Mentor开发的集成流程使光子设计人员能够将行业领先的光子模拟和EDA工具结合起来，与领先的代工厂合作能为光子设计人员提供了一个高可信度，高生产率的经过商业专业代工厂验证的硅片流程。
尊敬的女士/先生:
您好！我们诚挚邀请您参加Ansys /Lumerical & Mentor Tanner联合举办的光子集成电路设计线上研讨会。本次研讨会将详细介绍硅基光电子芯片版图开发的手动/自动流程与设计前瞻，版图驱动光仿真整合流程（Mentor Tanner L-Edit, Lumerical INTERCONNECT），通用型光子集成线路 PDK, GPIC (Generic Photonics IC) PDK 和 Lumerical CML。
2021年7月22日
上午10:00 am – 11:30 am 北京时间
会议注意事项：
1、在整个培训期间，参会人员可以通过互动区提出问题，会议后讲师将对问题进行回答；
2、 在培训期间，不要谈论与发布与培训无关的话题和内容，保持文明的课堂秩序。
我们期待您的参加！
祝颂商褀！