Tanner MEMS

产品名称:

Tanner MEMS
  • 产品简介

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在当前MEMS设计领域,工具集成度比以往增加了很多。为了应对市场竞争,用户需要一个已经成功证明能够加速商业项目设计周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件与相应模拟/数模混合电路设计的集成变得简单,同时也能够帮助用户改善MEMS器件的设计。因此,它能够减少培训时间,缩短设计周期。

Tanner MEMS设计流程的核心是L-Edit。L-Edit是一款MEMS版图编辑工具,可以进行曲线多边形和全角运算操作。相比于工程师使用的其他CAD工具,L-Edit的版图规划更加清晰。用户可以快速的画出所需的图形,并方便地检查多层版图组合之间的重叠和相互关联。利用L-Edit例如强大的曲线编辑、实时DRC检查、布尔运算、对象捕捉与对准等方面的优势,用户可以更有效的完成设计任务,并节约时间与成本。与此同时,在任意形状与曲率的多边形复杂运算和派生层生成操作上,L-Edit的精度也可以做的非常高。这些操作包含AND,OR,XOR,Subtract,Grow和Shrink等。它们允许用户根据简单的形状产生复杂的MEMS特殊结构。如下图所示:

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Tanner MEMS的特点及优势

- 同一环境下完整的IC和MEMS设计解决方案

- 25年的MEMS设计经验

- 从版图生成3D MEMS模型

- 支持导入和导出GDS、OASIS、DXF、Gerber 和 CIF 文件格式

- L-Edit提供可视化连接的节点高亮,可以快速查找和定位DRC和LVS问题

- 高度可编程的MEMS版图设计工具,如曲线多边形、多角操作等

- 参数化派生层产生工具,可实现特殊MEMS结构设计

- 完整可视化的多图层几何图形设计- 利用工具栏便捷地生成、摆放和对准图形,执行任意角度旋转、翻转、合并、咬和切片操作,指定一个参考点进行编辑操作,如对象旋转、翻转、移动,或使用基点位置进行实例放置等

- 针对MEMS工艺的DRC检查

- 支持附带边界重构的DXF数据格式导入导出

- 支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 进行硅光器件设计

- Soft MEMS工具选项

> 高级3D分析工具:机械,热,声,电,静电,磁性和流体分析

> 系统级仿真,包含IC和MEMS协同仿真

> 根据3D分析结果,自动生成MEMS器件行为模型


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